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PCE-22 紫外臭氧清洗機(jī)是一款可加熱型的紫外臭氧清洗機(jī)，其加熱溫度可達(dá)150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片，為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠，改善表面潤(rùn)濕性，清洗SEM &TEM，紫外對(duì)聚合物改性等。

PCE-44 小型紫外臭氧清洗機(jī)，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對(duì)材料無損傷的原子級(jí)別的清洗手段，特別適合清除一些有機(jī)化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長(zhǎng)的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵

PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗機(jī)，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對(duì)材料無損傷的原子級(jí)別的清洗手段，特別適合清除一些有機(jī)化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長(zhǎng)的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵

PCE-6V 小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。工作時(shí)外接一臺(tái)真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時(shí)間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物，清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。另外，其樣品臺(tái)可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

PDC-36G 等離子清洗機(jī)是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機(jī)。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級(jí)有機(jī)物污染。在射頻電源的作用下，去除速率大每分鐘10納米。在單晶材料外延薄膜生長(zhǎng)以前進(jìn)行預(yù)處理，對(duì)生長(zhǎng)具有顯著的作用 。

PCE-80 8.5英寸等離子清洗機(jī)是一款較大型的等離子清洗機(jī)，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設(shè)備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等）。對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理此款設(shè)備是較為理想的實(shí)驗(yàn)幫手。