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PCE-6V 小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。工作時(shí)外接一臺(tái)真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時(shí)間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物，清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。另外，其樣品臺(tái)可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

PDC-36G 等離子清洗機(jī)是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機(jī)。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級(jí)有機(jī)物污染。在射頻電源的作用下，去除速率大每分鐘10納米。在單晶材料外延薄膜生長(zhǎng)以前進(jìn)行預(yù)處理，對(duì)生長(zhǎng)具有顯著的作用 。

PCE-80 8.5英寸等離子清洗機(jī)是一款較大型的等離子清洗機(jī)，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設(shè)備主要是通過(guò)空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來(lái)去除基片上的氧化層和污染物，同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等）。對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理此款設(shè)備是較為理想的實(shí)驗(yàn)幫手。

PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機(jī)是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機(jī)，等離子腔體為 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體，采用的射頻電源頻率為13.56MH，功率0 -500W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設(shè)備功率高，可用于等離子刻蝕、等離子灰化、表面改性以及材料摻雜改性等應(yīng)用，對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理此款設(shè)備是較為理想的實(shí)驗(yàn)幫手。

GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下，迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學(xué)元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質(zhì)量的外延薄膜或者光學(xué)涂層，預(yù)*行表面處理可以得到顯著的效果。

GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺(tái)結(jié)合在一起的產(chǎn)品，有自動(dòng)控制的樣品臺(tái)，就可使等離子槍按設(shè)定程序?qū)悠繁砻孢M(jìn)行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的*性和均勻性。此系統(tǒng)是由RF發(fā)生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動(dòng)的工作臺(tái)（帶有真空吸盤和控制盒）。此系統(tǒng)產(chǎn)生等離子束可在非真空和低溫狀態(tài)下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學(xué)元件和塑料等，也可在常壓下進(jìn)行等離子增強(qiáng)